Вивчення тонких плівок, у тому числі плівок субмоношарових покриттів є важливою проблемою сучасної науки. Широко розвивається технологія виготовлення таких плівок для подальшого застосування їх у сенсорицi, плазмонiцi та iн. Важливою частиною цього процесу є контроль над властивостями плівок, що були отримані. Більш доцільними методами для таких досліджень постають оптичні методи, оскільки вони неруйнiвнi та безконтактнi, характеризуються достатньою інформативністю. Одним з таких методiв є метод елiпсометрiї. Параметри, що вимiрюються при вивчення тонких плівок методом елiпсометрiї можуть бути вираженi через коефiцiєнти вiдбиття Френеля, що визначаються коефiцiєнтами заломлення плiвки та пiдкладки. Останнiм часом виникає необхiднiсть вивчати методом елiпсометрiї плiвки, що являють собою шари органiчних молекул (наприклад, молекул барвникiв або бiологiчних молекул) або шари металiчних чи напiвпровiдникових наночастинок на поверхнi твердого тiла. При цьому виникає необхідність визначати локальні параметри таких плівок концентрацію, розміри та форму частинок. Отже, виникає проблема визначення ефективних параметрів тонкої плiвки покриття – комплексного коефiцiєнта заломлення – через параметри частинок, зокрема, їх розміри та форму.
В основі методу елiпсометрiї лежить зміна поляризації свiтла при його вiдбиттi вiд зразка, що дослiджується. Найбiльш зручним є опис еліпса в система координат, пов’язаний iз власними модами відбиття від поверхні, що досліджується. Найбільш загальним є випадок відбиття від ізотропних систем або систем де одноосьова анізотропія задається геометрією – вісь анізотропії перпендикулярна площині поверхні. У такому випадку власними модами є p– та s-поляризоване світло. Маючи порівняну з інтерферометрією чутливість, завдяки фазовим вимірам елiпсометрiя є більш зручним самоузгодженим методом iз внутрiшньою нормалізацією, в якому вимірюється відносна зміна еліпса поляризації, що описується двома елiпсометричними кутами Ψ i Δ.